2026年6月2日,韩国产业通商资源部宣布《高压气体安全管理法施行令》实施细则修订案获国务会议通过,将于下周公布并立即实施。此举针对EUV光刻机设备,将其归类为“特定设备”,豁免中间检查,压缩技术审查与竣工核验至各2天,总审批时长由34天减至9天。同时,企业可节省每台约5亿韩元的海外检验费用。调整旨在加快尖端半导体设备部署,提升产业链响应效率。

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